AMC-Analyzer

상품 설명

AMC(Airborne Molecular Contamination, 공기 중 분자 오염)는 클린룸 및 울트라 클린룸에서 실리콘 웨이퍼 기반 반도체 소자를 생산하는 전체 분야에서 발생하는 문제를 설명합니다. 클린룸 및 울트라 클린룸은 일반적인 주변 공기에 존재하는 입자나 화학 물질이 수 마이크로미터 범위의 집적 회로 패터닝을 방해할 수 있는 특수 제조 공정에 필요합니다. 따라서 이 용어는 클린룸 공기 중에 존재하는 고체, 액체 또는 기체 오염 물질로서 제조된 제품에 바람직하지 않은 화학적 또는 물리적 영향을 미치는 물질을 의미합니다. 특히, 실리콘 웨이퍼 기반 반도체 소자의 소위 프런트엔드 제조 공정의 다양한 단계에서 사용되는 모든 화학 물질이 포함됩니다.
이러한 공정 및 방법에 사용되는 화학 물질은 크게 다음과 같은 그룹으로 나눌 수 있습니다.
1. 패터닝 공정(주로 후속 단계에서 처리(예: 도핑)되지 않을 웨이퍼 영역을 덮는 포토레지스트 마스크를 패터닝하기 위한 포토리소그래피). 포토레지스트 용매(아세톤, NMP, TMAH(트리메틸아민 공급원) 등), 접착 촉진제(HMDS 등)
2. 층 형성 공정(에피택시, 스퍼터 증착, 증착, CVD 등), NH3로부터 제조한 질화규소 및 디클로로실란디보란, 포스핀 등
3. 공정 층 제거 및 세척: (건식 및 습식 화학 에칭 공정), HCl, HF 등

상품 사양

측정원리 : IMS(이온 이동도), GC -IMS, GC-PID
측정가스 : Sarin (GB), Tabun (GA), Soman (GD), VX,
S-Mustard (HD), N-Mustard (NH-3), Lewisite (L)
측정범위 : Lower ppb, ppt range (가스별 개별문의)

상품 특징

클린룸 및 챔버 내부의 화합물 식별 및 정량
매우 낮은 검출 한계(ppt 범위)
외부 운반 기체 및 소모품이 필요 없으므로 운영 비용이 저렴합니다.
하나의 용액으로 여러 물질군 분석 가능(총 산/총 아민/암모니아/총 용매/도핑제) - 특정 물질을 정확하게 식별할 수 있습니다.
수 분 이내의 응답 시간
모든 물질에 대해 0~30ppb의 측정 범위 - ppt 수준의 감도!
실시간 현장 분석 가능

상품 적용 분야

• 대기 모니터링
• 공정 가스 모니터링
• 연속 배출 제어 (굴뚝)
• 반도체 제조
• 환경 모니터링
• 의료/제약 모니터링